臥式CNT/石墨烯合成裝置MPCVD-Graphene的特點(diǎn)

臥式CNT/石墨烯合成裝置MPCVD-Graphene的特點(diǎn)

使用高真空泵系統(tǒng)（可選）沉積
的單層石墨烯/Ni 的光學(xué)顯微圖像

　基板的快速冷卻據(jù)說是通過使用碳?xì)浠衔餁怏w（CH4 和 C2H2）的 CVD 方法在催化劑基板（Ni、Cu 等）上生長石墨烯薄膜的重要因素之一。

　該裝置配備了僅允許加熱部分滑動(dòng)而爐芯管保持原樣的機(jī)構(gòu)。這種滑動(dòng)機(jī)構(gòu)允許爐子的熱區(qū)快速從樣品位置移開，從而使樣品快速冷卻。此外，通過安裝可選的高真空排氣系統(tǒng)，可以輕松沉積更大面積的單層石墨烯薄膜。

使用高真空泵系統(tǒng)（可選）沉積的單層石墨烯/Ni 的拉曼光譜

加熱期間（載玻片移動(dòng)前）

冷卻時(shí)（滑動(dòng)移動(dòng)后）

*實(shí)際產(chǎn)品可能與照片略有不同。

目的：	這是用于合成石墨烯薄膜的管式爐（50mmφ）型熱CVD設(shè)備。
特征：	配備爐膛滑動(dòng)機(jī)構(gòu)，可快速加熱/冷卻樣品　三系統(tǒng)質(zhì)量流量氣體流量控制系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)氣體控制　緊湊堅(jiān)固的外殼設(shè)計(jì)，易于安裝在桌面實(shí)驗(yàn)室工作臺等。　[選項(xiàng)] 可增加電機(jī)驅(qū)動(dòng)的自動(dòng)滑動(dòng)功能。　[選項(xiàng)] 通過增加渦輪排氣泵，可以沉積更高質(zhì)量的石墨烯。　[選項(xiàng)] 可將熱電偶傳感器引入爐內(nèi)，直接監(jiān)測樣品溫度。

目的：

這是用于合成石墨烯薄膜的管式爐（50mmφ）型熱CVD設(shè)備。

特征：

產(chǎn)品目錄

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