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產(chǎn)品資料
首頁 >>> 產(chǎn)品中心 >>> 機(jī)械設(shè)備 >>> 涂布機(jī) >>> SC-701MC超小型的濺射裝置涂布機(jī)用于制備導(dǎo)電薄膜

超小型的濺射裝置涂布機(jī)用于制備導(dǎo)電薄膜

產(chǎn)品名稱: 超小型的濺射裝置涂布機(jī)用于制備導(dǎo)電薄膜
產(chǎn)品型號: SC-701MC
產(chǎn)品特點: 超小型的濺射裝置涂布機(jī)用于制備導(dǎo)電薄膜
特點
小型化設(shè)計:作為直流濺射類設(shè)備中的小型機(jī),SC-701MC具有超緊湊的機(jī)身尺寸,便于實驗室和小規(guī)模生產(chǎn)中使用。

超小型的濺射裝置涂布機(jī)用于制備導(dǎo)電薄膜 的詳細(xì)介紹

超小型的濺射裝置涂布機(jī)用于制備導(dǎo)電薄膜

超小型的濺射裝置涂布機(jī)用于制備導(dǎo)電薄膜

特點

  • 小型化設(shè)計:作為直流濺射類設(shè)備中的小型機(jī),SC-701MC具有超緊湊的機(jī)身尺寸,便于實驗室和小規(guī)模生產(chǎn)中使用。
  • 全自動操作:從排氣到涂層,再到進(jìn)入大氣,整個過程都是全自動的,減少了人工操作的復(fù)雜性和誤差。
  • 磁控管陰極:采用磁控管陰極,有助于減輕離子損傷,從而生產(chǎn)出高質(zhì)量的濺射薄膜。
  • 膜厚控制:配備預(yù)設(shè)方式和數(shù)字顯示膜厚監(jiān)視器,可以精確控制膜厚。
  • 易于操作:專用的試料臺和靶材臺,可以方便地調(diào)整靶材與基板之間的距離。
  • 適用范圍廣:適用于各種電子元器件的電極膜制備、反射薄膜制備等。

技術(shù)參數(shù)

表格
復(fù)制
參數(shù)詳情
陰極φ2英寸DC磁控管/2極對向電極
靶材Au靶材附屬
膜厚設(shè)定方式預(yù)設(shè)方式/帶膜厚監(jiān)視器的數(shù)字顯示
氣體導(dǎo)入機(jī)制針閥
真空泵直聯(lián)式回轉(zhuǎn)真空泵:20l/min(帶自動逆流防止閥)
排氣操作自動
真空腔尺寸內(nèi)徑φ120mm×D120mm(SUS制)
樣品交換方法前門開閉式
尺寸(寬/深/高)主體:225/420/320mm;RP:300/160/200mm
重量主體:15kg;RP:9kg

應(yīng)用

  • 各種電子元器件的電極膜制備。
  • 用于制造反射薄膜等的應(yīng)用。
SC-701MC以其小型化、自動化和高質(zhì)量的薄膜制備能力,成為實驗室和小規(guī)模生產(chǎn)中理想的濺射設(shè)備。

特點

  • 小型化設(shè)計:作為直流濺射類設(shè)備中的小型機(jī),SC-701MC具有超緊湊的機(jī)身尺寸,便于實驗室和小規(guī)模生產(chǎn)中使用
    。
  • 全自動操作:從排氣到涂層,再到進(jìn)入大氣,整個過程都是全自動的,減少了人工操作的復(fù)雜性和誤差
  • 磁控管陰極:采用磁控管陰極,有助于減輕離子損傷,從而生產(chǎn)出高質(zhì)量的濺射薄膜
    。
  • 膜厚控制:配備預(yù)設(shè)方式和數(shù)字顯示膜厚監(jiān)視器,可以精確控制膜厚。
  • 易于操作:專用的試料臺和靶材臺,可以方便地調(diào)整靶材與基板之間的距離
    。
  • 適用范圍廣:適用于各種電子元器件的電極膜制備、反射薄膜制備等

技術(shù)參數(shù)

表格
復(fù)制
參數(shù)詳情
陰極φ2英寸DC磁控管/2極對向電極
靶材Au靶材附屬
膜厚設(shè)定方式預(yù)設(shè)方式/帶膜厚監(jiān)視器的數(shù)字顯示
氣體導(dǎo)入機(jī)制針閥
真空泵直聯(lián)式回轉(zhuǎn)真空泵:20l/min(帶自動逆流防止閥)
排氣操作自動
真空腔尺寸內(nèi)徑φ120mm×D120mm(SUS制)
樣品交換方法前門開閉式
尺寸(寬/深/高)主體:225/420/320mm;RP:300/160/200mm
重量主體:15kg;RP:9kg

應(yīng)用

  • 各種電子元器件的電極膜制備。
  • 用于制造反射薄膜等的應(yīng)用。
SC-701MC以其小型化、自動化和高質(zhì)量的薄膜制備能力,成為實驗室和小規(guī)模生產(chǎn)中理想的濺射設(shè)備。


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